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Aunque yo predigo que microprocesadores continuará mejorando rápidamente, un avance constante tal es incierto. No está claro cómo fabricantes hará transistores más pequeñas, más rápidos en los añosvenideros.
Los métodos fotolitográficos usados ahora están llegando a límites graves. Si el problema no está resuelto, el progreso que hemos disfrutado durante décadas a vociferar a un alto.
Enfotolitografía, la luz se utiliza para transferir patrones de circuito de una plantilla de cuarzo, o la máscara, sobre la superficie de un chip de silicio. Las técnica ahora a la moda de característicasque son algunos 0.35 micrones de ancho. Haciendo características mitad ancho produciría transistores cuatro veces más pequeños, ya que el dispositivo es esencialmente bidimensional.
Pero pareceimposible hacer dichas piezas pequeñas usando luz; las ondas de luz son demasiado amplias. Muchas empresas han invertido encontrar maneras para sustituir a los rayos x menor por las ondas de luz. Hastala fecha, sin embargo, los rayos x no han logrado una manera de como producir en masa chips de última generación.
Abundan otras propuestas. Una esperanza es desplegar hazes de electrones utilizadopara crear mascaras de cuarzo con un patrón obleas de silicio.
El chorro fino de partículas cargadas podría rastrear cada línea en un diagrama del circuito, una nave, directamente en un chip.
Elproblema es que aunque esta solución es factible, es excesivamente lenta para uso comercial y por lo tanto podría resultar costoso.
Comparado con Fotolitografía, dibujo con un haz de electrones esanálogo a escribir una carta a mano en lugar de lo fotocopias.
Cañizos técnicos aparte, cualquier mejora en microprocesadores son amenazándolos por el creciente costo de las plantas de fabricaciónde semiconductores.
En ofrecen $ 1.000 millones a $2 billones, estos complejos ahora cuestan 1.000 veces más que lo hicieron hace 30 años.
Compradores y vendedores de equipos para semiconductores...