cap2
Transporte de corriente y
Relaciones de Continuidad
Los Dispositivos Semiconductores
Franco Renato Campana Valderrama
2.- Conducción de corriente en los SC
Dos tipos:
1.- El Arrastre o Deriva:
Debido al campo eléctrico E
2.- La Difusión:
Debido al gradiente de concentración de
partículas.
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2.1.- Movimiento deportadores en un SC
Sin campo eléctrico aplicado:
colisión
*
mn(p)
ν 2thn(p) 3kBT
=
2
2
- El movimiento es dado por la
energía térmica.
- Es un movimiento aleatorio.
*
m
: Masa efectivadel
n(p)
electrón(hueco)
v
: velocidadtérmica
thn(p)
del electrón(hueco)
Corriente neta=0
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Dirección del movimiento de los portadores ante uncampo aplicado:
E
Electrón
Hueco
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Movimiento de portadores en un SC
Aplicando un campo eléctrico externo:
Electrón
- Tendencia de moverse hacia un lado.
Corriente neta ≠ 0: existe corriente de arrastre!
- Su velocidad (Varrn) es menor a la velocidad térmica.
Varrn(p): Velocidad de arrastre de los electrones (huecos).
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2.2.- Corriente de arrastre de portadores
E
A: área de sección
transversal
µn(p): movilidad de
electrones (huecos)
+VInarr
= qnµnE
Electrones: Jnarr =
A
Iparr
Huecos:
Jparr =
= qpµpE
A
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µn =
qt
mn*
µp =
qt
mp*
t:̅ tiempo entre
colisiones.
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2.3.- La Dispersión(scattering)
Afecta la movilidad. Impide sea constante.
Algunos fenómenos de dispersión en los portadores
TIPO DE DISPERSIÓN
CAUSA QUE LO PROVOCA
Impurezas ionizadas
Debido a los dopantes en los
semiconductores
Fonones
Debido a las vibraciones de red
Impurezas químicas
Debido a las impurezas no intencionales al
momento de construir el dispositivo
Portador-portador
Colisiones entre losmismos portadores
Piezoeléctrica
Debido al desplazamiento de átomos desde
sus respectivos lugares en la red
Estudiaremos dos tipos principales de dispersión:
Impurezas ionizadas y por Fonones
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1.- Impurezas Ionizadas
- Depende del grado de dopaje del SC.
- Tipo de colisión: portador-ión.
Representación de la atracción coulómbicaión fijo-electrón
Desviación de los portadores debido a los iones fijos
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Variación de la movilidad de los portadores debido al dopaje
Valores típicos de la movilidad a T=300 K
MATERIAL
SEMICONDUCTOR
µn (cm2 /V-s)
µp (cm2 /V-s)
Silicio
1350
480
Arsenuro de Galio
8500
400
Germanio
3900
1900
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2.- Fonónica
- Depende de la temperatura: los átomos vibran.
Desplazamiento atómico alrededor de
su posición de equilibrio !
- Interacción de portadores con dichas vibraciones
≈ dispersión portador-”partícula”
”partícula”: Fonón
Regla de Matthiessen
para el cálculo de la
movilidad debido a los
efectos de dispersión:
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1
µn(p)=
1
+
1
µn(p)ii µn(p)f
µn(p) Movilidad de
electrones (huecos).
ii: Impurezas ionizadas
f: Fonónica.
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Dependencia de la movilidad con respecto a la
temperatura y al grado de dopaje
Aumento de temperatura: incremento de la energía térmica y vth.
Los portadores permanecen por un corto tiempo cerca de la
impureza ionizada.
Mayor temperatura:
comienza ladispersión por fonones
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Efectos de un campo eléctrico de gran
magnitud
- Velocidad de arrastre comparable a la v. térmica.
qt
v arrn = − * E = −µnE
mn
v arrp =
qt
E = µpE
*
mp
- Decrece el tiempo entre colisiones.
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2.4.- Corriente de Difusión
Difusión:
- Migración...
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